Elmitec公司的光电子显微镜(PhotoElectron Emission Microscope PEEM)及低能量电子显微镜(Low Energy Electron Microscope LEEM)、

拥有最极高的空间分辨率(3nm)和时间分辨率(0.01s)，广泛应用于结晶成长过程，相转移，吸着，扩散，化学反应、磁性体研究等诸多科研领域。

   LEEM-III系统

• 成像功能:明,暗视野成像,镜面成像,热电子成像,光电子成像
• 空间分辨率：＜８nm(保证)、达到4.6nm(16/84% criteria)
• 样品的电子能量：-5 to 500 eV
• 视野: 2 - 80 μm (up to 150 μm in PEEM mode)
• 扩大率: 500 - 20000
• 本底真空度: 2 x 10-10 Torr
• 样品温度：室温~1800K（短时间的2000K可能）

   
   LEEM-IV系统

• 低价格
• 操作简单
• 完全磁场屏蔽
• LEEM/LEED和PEEM功能自动控制
• 空间分辨率：< 20 nm
• 视野：3-75 μm、(PEEM:3-85 μm)

   LEEM-V系统

• 成像功能:明,暗视野成像,镜面成像,热电子成像,光电子成像
• 空间分辨率：< 8nm(保证)、达到4.9nm(16/84% criteria)
• 样品的电子能量：-5 to 500 eV
• 视野: 1 - 70 μm (up to 100 μm in PEEM mode)
• 扩大率: 570 - 40000
• 本底真空度: < 2 x 10-10 Torr
• 样品温度：室温~1800K（短时间的2000K可能）

   ACLEEM（收差校正LEEM/PEEM）系统

• 理论空间分辨率<3 nm（8倍强度）
• 收差校正和非收差校正的切换简单
• 磁场型LEEM/PEEM扩张可能

   PEEM-III系统

• 成像功能:热电子成像,光电子成像
• 空间分辨率：＜15nm(保证)、达到8.2nm(16/84% criteria)
• 视野: 2 - 170 μm
• 本底真空度: < 2 x 10-10 Torr
• 样品温度：室温~1800K（短时间的2000K可能）

   PEEMSPECTOR

• 小型：直径66、长226、接口法兰ICF114
• 操作简单,高性能,低价格
• 空间分辨率< 30nm
• 超高真空对应,可全体烘烤超至150℃
• 整套设备的小型化,使得设备的移动很简单。完全采用静电型透镜。
  通过一个透镜的把手,可简单实现5 μm~500 μm范围的视野变换。

   电子能量分析器

• 能量分辨率: < 0.2eV
• 能量范围: >15eV
  
通过改变光电子能量,可获得全范围的光电子能谱。

   位移台

• ICF203接口法兰
• XY＝±5mm、Z=50mm
• 倾角调整（二个方向）：±2°
• 电子冲击加热样品架
• W/Re热电偶
• 样品温度:室温~1500C°（瞬间2000C°可）、冷却可能
• 耐电压：30kV
  选择项:电机控制XY驱动

  电子自旋枪系统

• GaAs电子枪腔体本底真空: <1x10-10 Torr
• 电子自旋枪源: GaAs（Zn doped）
• 活性化要素: Cs, O2
• 电子能量: 20 kV
• 照射光源: 30 mW Diode Laser,780 nm with circular polarizer and focusing lenses
• 发射电流: 1 μA
• 偏极角度: 180 deg
• 普通照射源: thermal LaB6
• 标准电流: 1 μA
• 偏极度：27%